供應坩堝噴涂臺、多晶硅坩堝氮化硅噴涂臺、噴涂臺的技術規格：

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　坩堝噴涂烘烤裝置是多晶硅鑄錠爐的輔助工藝裝備，用于對鑄錠爐所使的石英坩堝進行脫模劑（SiN 粉末）涂層噴涂。該裝置是鑄錠爐必備附機，采用先進的溫控勻熱技術及美國產高精密防飛霧噴槍，能幫助用戶完成高質量的坩堝噴涂，并減少原料的消耗！
　　根據用戶需求，坩堝噴涂烘烤工藝裝備包括雙向回轉加熱器、脫模劑（SiN）泵送系統、坩堝烘箱等輔助附件組成。
技術參數
a、SiN 攪拌器 驅動方式： 氣動；
攪拌速度：0～300rpm 無級可調；
b、蠕動泵驅動方式：氣動；
泵送方式：壓送；
c、溢流閥：溢流壓力可調；
d、噴槍霧化錐度：可調；
出口壓力：15～40psi
e、氣槍： 出口壓力：80～100psi；
f、氣源供氣壓力：6～8kg/cm2，符合DIN ISO 8573-1 3 標準，干燥、潔凈、去油的壓縮空氣；
g、脫模劑 SiN 粉末， 粒度≤0.26mm；
h、純水（用戶自備） 工業一級，符合GB/TII446.1-1997 EW-I 要求；0二、噴涂臺的技術規格：該噴涂臺適用于多晶硅坩堝的氮化硅涂層的噴涂。噴槍采用美國產的精密可調非金屬噴槍，攪拌器采用非金屬材料制成，在噴涂過程中絕對沒有金屬雜質進入。a、SiN攪拌器驅動方式：氣動；
攪拌速度：0～300rpm無級可調；
b、蠕動泵驅動方式：氣動；
泵送方式：壓送；
c、溢流閥：溢流壓力可調；
d、噴槍霧化錐度：可調；
出口壓力：15～40psi
e、吹槍：出口壓力：80～100psi；
f、氣源供氣壓力：6～8kg/cm2，符合DIN ISO 8573-1 3標準，干燥、潔凈、去油的壓縮空氣；
g、脫模劑SiN粉末，粒度≤0.26mm；
h、純水（用戶自備）工業一級，符合GB/TII446.1-1997 EW-I要求；