激光刻膜機

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設備性能
SDF(SSF)系列激光刻膜機采用半導體泵浦激光器(或全固態(tài)激光器)，光點固定不動，工作臺帶動電池板兩維運動，或兩維分離，光點沿X軸運動，電池板沿Y軸運動，刻膜專用X-Y工作平臺，伺服驅(qū)動、滾珠絲杠與導軌傳動，或X軸直線電機驅(qū)動，通過界面友好的專用控制軟件，方便刻膜路徑的編輯和修改，利用分光系統(tǒng)，同時完成兩路或四路激光同步輸出。


應用領域
薄膜太陽電池TCO膜、a-Si膜（μc-Si膜）、Al膜（ZnO膜)的刻膜或劃線。


主要技術參數(shù)
型號規(guī)格 SDF50B SDF10D SSF10B SSF5D
激光波長 1064nm 532nm 1064nm 532nm
激光功率 50W 10W 10W 5W
激光重復頻率 200Hz~50kHz 1kHz~100kHz
刻膜線寬 80μm 50μm
刻膜速度 200mm/s 600mm/s
刻膜精度 ±10μm ±10μm
工作臺幅面 1250×640mm 或 1100×1400mm
冷卻方式 恒溫水冷 風冷

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